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石英精馏塔在超高纯度化学品精馏中的应用
石英精馏塔并非用于大规模化工生产,而是超高纯度、高附加值、特别是对金属容忍的领域的专用设备。它是实现ppt(万亿分之一)甚至ppq(千亿分之一)级别纯度的之一。
石英(主要成分SiO₂)的物理和化学性质决定了其在特定场景下的不可替代性:
化学惰性:
除氢氟酸(HF)和热磷酸外,几乎不与其他酸、卤素、溶剂等发生反应。这意味着它不会向产品中引入任何金属离子(如Fe、Na、K、Cr、Ni等)杂质,这是金属污染敏感应用的。
极低的污染性:
其表面非常光滑且无孔,不易吸附物料,易于清洗,极大降低了批次间的交叉污染风险。
优异的热稳定性:
可长时间在1000℃以上的高温下工作,短时间可耐1450℃。这使得它非常适合处理一些需要高温精馏的物料。
高纯度:
高品质的石英玻璃本身纯度就,金属杂质总含量可低于1ppm,甚至达到ppb级。
对比:虽然高级不锈钢(如316L-EP)和特种合金(如哈氏合金)经过电抛光和钝化处理后性能优异,但其金属本质决定了仍会有极微量的离子析出风险。对于要求绝对“零金属"污染的场景,石英精馏塔是选择。
石英精馏塔的应用高度集中在以下几个对纯度有要求的领域:
半导体集成电路(IC)制造:
这是石英塔最核心、最大的应用领域。用于提纯光刻胶(Photoresist) 及其稀释剂(如PGMEA、乙酸丁酯等)、CMP抛光液的关键添加剂、以及某些超高纯溶剂(如异丙醇IPA)的最后精制阶段。这些化学品直接接触硅片,任何金属污染都是致命的。
化合物半导体材料制备:
用于生产LED、激光二极管、光伏电池等所需的高纯金属有机化合物(MO源),如三甲基镓(TMGa)、三甲基铟(TMIn)等。这些是MOCVD工艺的前驱体,其纯度直接决定外延片的质量和器件性能。
光纤预制棒合成:
用于提纯制造光纤的核心原料——高纯四氯化硅(SiCl₄) 和 四氯化锗(GeCl₄)。光纤中的杂质会吸收光信号,造成巨大衰减,因此必须通过石英精馏塔将杂质降至ppb级以下。
生命科学与制药:
用于提纯对金属催化剂极其敏感的高活性医药中间体、色谱试剂、标准品等。微量的金属残留可能毒化反应催化剂或影响分析结果的准确性。
特种材料与研究:
用于科研或军工领域所需的各种超高纯试剂和特殊材料的制备。