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石英精馏塔在四氯化硅(SiCl₄)精馏中应用
石英(主要成分SiO₂)在四氯化硅精馏中,也是其不可替代的原因,在于其的金属惰性和纯度。
消除金属污染源:即使采用经过电解抛光(EP)处理的高品质不锈钢(如316L),在长期与高温、含氯的SiCl₄及其中痕量HCl接触后,仍有极微量金属离子(如Fe、Cr、Ni)溶出的风险。对于光纤预制棒等应用,任何痕量的过渡金属离子(如Fe、Cu、Cr)都会极大地增加光纤的光衰减,是绝对不允许的。石英材质从根本上杜绝了这种污染。
耐腐蚀性:石英对SiCl₄、HCl以及其混合体系具有优良的化学稳定性,不发生腐蚀。
石英精馏塔并非SiCl₄精馏的主流选择,而是用于最终端的超高纯产品精制阶段:
光纤级四氯化硅(用于制造二氧化硅预制棒):这是石英塔最典型、最主要的应用领域。光纤对传输损耗要求,痕量的金属杂质是导致光信号衰减的关键因素。因此,在生产光纤核心原料——超高纯SiCl₄的最后一道精馏工序中,普遍使用石英塔。
半导体级硅外延沉积的特定前驱体:在少数对金属杂质控制要求超越常规电子级的特殊半导体工艺中,可能会使用石英塔精制的SiCl₄。
其系统组成与不锈钢填料塔类似,但材质和部分设计有特殊之处:
塔体:
由高纯度透明石英玻璃制成。
结构通常为法兰连接的多段式,便于制造、运输和内部填料的装填。
法兰密封是关键技术点,通常使用高纯度氟橡胶O型圈或柔性石墨垫片,并在外围采用水冷夹套进行冷却,防止密封件因高温失效。
内部构件:
填料:同样使用规整填料,但材质是石英。石英规整填料的制造难度和成本远高于金属填料。
分布器/再分布器:也由石英玻璃精心吹制而成,结构通常比金属件更简单,以确保强度和分布的均匀性。
塔釜:通常是一个石英玻璃的蒸发器,外部用电加热套或红外加热器进行加热。由于石英导热性不如金属,加热需要特别均匀以避免热应力破裂。
辅助系统:
加热系统:避免明火直接加热,采用电加热套或远红外加热器,以实现均匀、可控的加热,防止石英因局部过热而破裂。
保温:使用柔软、轻质的保温材料(如陶瓷纤维毯)包裹塔体,避免对石英设备产生机械应力。
真空系统:同样需要干式真空泵,要求更高,确保系统平稳运行,避免压力剧烈波动对脆弱石英设备造成冲击。